• 當前第 1
  • 需求方:湖北凱樂科技股份有限公司
    預算金額:100萬元人民幣
    發布日期:2020-12-21
    需解決的主要技術問題:建立一套在實驗室里完成的PVC產品配方優化、改進的評價系統,比如對PVC產品配方的流動性、熱穩定性、抗沖擊性能進行評價和判斷。擬實現的主要技術目標:需滿足PVC通信管材YD/T841標準要求。
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  • 需求方:湖北凱樂科技股份有限公司
    預算金額:8020萬元人民幣
    發布日期:2020-12-16
    需解決的主要技術問題:1、帶金屬示蹤線生產工藝以及技術開發,如何保證金屬示蹤線在硅芯管管壁中間位子“不偏心”生產技術,這涉及到模具設計,工藝改進等,同時需兼顧管材各項指標性能達標;2、防鼠、防蟻、阻燃硅芯管的生產技術開發,涉及材料選取,配方優化,成本優化以及生產技術攻關;3、集束管外管與內部微管不粘結技術攻關,由于集束管外管和內壁微管均是HDPE樹脂材料,在高溫擠出復合的情況下,很容易產生外管和內部管材粘接情況。擬實現的主要技術目標:需滿足硅芯管、集束管JT/T496-2018標準要求,同時特殊管材需滿足特定防鼠、防蟻、阻燃等要求。
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  • 需求方:湖北凱樂科技股份有限公司
    預算金額:2000萬元人民幣
    發布日期:2020-12-16
    需解決的主要技術問題:1、智能設備的技術要求;2、智能模塊的需求及程序的編寫;3、生產過程中自動化設備單元的改進技術要求;4、智能化數據網絡平臺的搭建與對接。擬實現的主要技術目標:1、技術、生產、質量、成本數據自動采集、儲備、傳輸;2、物流倉儲出入庫自動化無人管理;3、通過智能化實現降低用人成本。
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  • 需求方:湖北鳴利來冶金機械股份有限公司
    預算金額:200萬元人民幣
    發布日期:2020-12-16
    需解決的主要技術問題:針對精密鍛造生產工藝自動化程度不高問題,開展自動上下料設備、機械手臂智能抓取技術、鍛造過程智能控制的研究。擬實現的主要技術目標:1、鍛件尺寸誤差:±0.10~±0.25mm 之間2、鍛件合格率:99%以上最大鍛造打擊壓力:2500 噸,1%~100%壓力可調
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  • 需求方:湖北新生源生物工程股份有限公司
    預算金額:80萬元人民幣
    發布日期:2020-12-14
    需解決的主要技術問題:包括前期菌種篩選、發酵工藝的研究,純化工藝的確定,工藝路線的優化,成本核算,經濟效益分析等工作。擬實現的主要技術目標:產品質量符合AJI92標準
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  • 需求方:湖北新生源生物工程股份有限公司
    預算金額:80萬元人民幣
    發布日期:2020-12-14
    需解決的主要技術問題:包括前期菌種篩選、發酵工藝的研究,純化工藝的確定,工藝路線的優化,成本核算,經濟效益分析等工作。擬實現的主要技術目標:產品質量符合AJI92標準
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  • 需求方:湖北新生源生物工程股份有限公司
    預算金額:80萬元人民幣
    發布日期:2020-12-14
    需解決的主要技術問題:包括前期菌種篩選、發酵工藝的研究,純化工藝的確定,工藝路線的優化,成本核算,經濟效益分析等工作。擬實現的主要技術目標:產品質量符合AJI92標準
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  • 需求方:萬華禾香板業(公安縣)有限責任公司
    預算金額:200萬元人民幣
    發布日期:2020-12-14
    需解決的主要技術問題:通過板材加工整體智能化來解決人工檢測準確率低及粉塵、噪音污染等問題.擬實現的主要技術目標:完成自動檢測,合格率99.99%,提高生產效率。
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  • 需求方:湖北新生源生物工程股份有限公司
    預算金額:80萬元人民幣
    發布日期:2020-12-14
    需解決的主要技術問題:包括前期菌種篩選、發酵工藝的研究,純化工藝的確定,工藝路線的優化,成本核算,經濟效益分析等工作。擬實現的主要技術目標:產品質量符合AJI92標準
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  • 需求方:南通泰徳電子材料科技有限公司
    預算金額:50萬元人民幣
    發布日期:2020-12-11
    技術背景:由于濺射鍍膜工藝起源于國外,所需要的濺射靶材產品性能要求高,長期以來全球濺射靶材研制和生產主要集中在美國、日本少數幾家公司,產業集中度相當高。以霍尼韋爾(美國)、日礦金屬(日本)、東曹(日本)等為代表的濺射靶材生產商占據全球絕大部分市場份額。這些企業在掌握濺射靶材生產的核心技術以后,實施極其嚴格的保密措施,限制技術擴散,同時不斷進行橫向擴張和垂直整合,將業務觸角積極擴展到濺射鍍膜的各個應用領域,牢牢把握著全球濺射靶材市場的主動權,并引領著全球濺射靶材行業的技術進步。技術問題:半導體產業對靶材濺射薄膜的品質要求是最苛刻的,對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒,這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結構。靶材的結晶粒子直徑和均勻性已被認為是影響薄膜沉積率的關鍵因素。另外,薄膜的純度與靶材的純度關系極大。技術指標: 靶材的內部組織結構,鋁硅銅半導體靶材平均晶粒度小于50微米,級差小。
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